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 Machine learning-based exploration of molecular design descriptors for area-selective atomic layer deposition (AS-ALD) precursors 基于机器学习的区域选择性原子层沉积（AS-ILD）前体分子设计描述符探索
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期刊：Journal of Molecular Modeling 作者：Tran Thi Ngoc Van; Changsu Kim; Hojae Lee; Jiyong Kim; Bonggeun Shong 出版日期：2023-12-14 |
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