| 标题 |
 Electron beam lithography patterning of sub-10nm line using hydrogen silsesquioxane for nanoscale device applications 用于纳米器件的氢倍半硅氧烷亚10nm线电子束光刻图案化
相关领域
倍半硅氧烷氢
材料科学
电子束光刻
抵抗
平版印刷术
下一代光刻
纳米技术
模版印刷
纳米尺度
光电子学
激光线宽
多重图案
纳米线
光学
激光器
物理
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：In-Bok Baek; Jong‐Heon Yang; Won-Ju Cho; Chang–Geun Ahn; Kiju Im; et al 出版日期：2005-11-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
cocolu
嗯哼
zho
清爽老九
Jack80
大红豆子
nvatk16
暴躁的鸿涛
strack
加菲丰丰
Billy
七慕凉
杳鸢
江九言
从容芮
踏实努力
tuanheqi
Sandy
务实的秋灵
乐乐乐乐乐乐
皖公网安备34019202002308
