标题 |
Low Volume Shrinkage Alkaline Degradable UV Nanoimprint Lithography Resists Based on Acrylic Anhydride
低体积收缩碱性可降解紫外纳米压印抗蚀剂的基于丙烯酸酯的抗蚀剂
相关领域
抵抗
收缩率
材料科学
纳米压印光刻
固化(化学)
复合材料
紫外线固化
平版印刷术
化学工程
光电子学
图层(电子)
工程类
医学
替代医学
病理
制作
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Nanoscale 作者:Chuan Zhao; Ya-Juan Cai; Yi-Xing Sun; Ya-Ge Wu; Ke-Xiao Sang; et al 出版日期:2024-11-11 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|