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Growth behavior of polycrystalline silicon thin films deposited by RTCVD on quartz substrates
石英衬底上RTCVD沉积多晶硅薄膜的生长行为
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网址
https://doi.org/10.1007/s11434-010-3036-4
DOI
10.1007/s11434-010-3036-4 doi
其它 期刊：Chinese Science Bulletin
作者：Bin Ai; Chao Liu; Xueqin Liang; Hui Shen
出版日期：2010-07-01
求助人
东东西西 在 2024-11-01 15:19:12 发布自浙江，悬赏 10 积分
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