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 Defect distribution in boron doped silicon nanostructures characterized by means of scanning spreading resistance microscopy 用扫描扩散电阻显微镜表征硼掺杂硅纳米结构中的缺陷分布
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期刊：Journal of Applied Physics 作者：Jan K. Prüßing; Tim Böckendorf; Gerry Hamdana; Erwin Peiner; H. Bracht 出版日期：2020-02-04 |
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