Nonpyrophoric alternative to trimethylaluminum for the atomic layer deposition of Al2O3

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标题	Nonpyrophoric alternative to trimethylaluminum for the atomic layer deposition of Al2O3 三甲基铝的非自燃替代品用于Al2O3原子层沉积相关领域原子层沉积图层（电子）沉积（地质）纳米技术材料科学化学环境化学生物沉积物古生物学
网址	https://doi.org/10.1116/6.0004171
DOI	10.1116/6.0004171 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Jay V. Swarup; Heng-Ray Chuang; Joseph Jensen; Jeffrey Gao; Amy L. You; et al 出版日期：2025-02-05
求助人	eyou 在 2025-02-20 14:43:35 发布自福建，悬赏 10 积分
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