High capacitance density highly reliable textured deep trench SiN capacitors toward 3D integration

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标题	High capacitance density highly reliable textured deep trench SiN capacitors toward 3D integration 面向3D集成的高电容密度高可靠纹理化深沟槽SiN电容器相关领域电容器电容材料科学沟槽电介质光电子学薄脆饼制作电流密度电压电气工程复合材料电极化学工程类图层（电子）物理化学病理物理替代医学医学量子力学
网址	https://doi.org/10.35848/1347-4065/abec5f
DOI	10.35848/1347-4065/abec5f doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Koga Saito; Ayano Yoshida; Rihito Kuroda; Hiroshi Shibata; Taku Shibaguchi; et al 出版日期：2021-03-05
求助人	mjcmajingchen 在 2024-09-27 16:26:05 发布自广东，悬赏 10 积分
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