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[高分] 学位论文 Understanding fundamental mechanisms of photoresist dissolution
了解光刻胶溶解的基本机制
相关领域
光刻胶
溶解
纳米技术
材料科学
工程类
化学工程
图层（电子）
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| 其它 | Burns S D. Understanding fundamental mechanisms of photoresist dissolution[M]. The University of Texas at Austin, 2003. |
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