Low Resistivity Aluminum Doped Layers Formed Using High Dose High Temperature Implants and Laser Annealing

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标题	Low Resistivity Aluminum Doped Layers Formed Using High Dose High Temperature Implants and Laser Annealing 利用高剂量高温注入和激光退火形成低电阻率铝掺杂层相关领域退火（玻璃）材料科学薄板电阻掺杂剂离子注入掺杂剂活化兴奋剂铝光电子学激光器电阻率和电导率硅冶金复合材料离子图层（电子）光学化学电气工程有机化学工程类物理
网址	https://doi.org/10.4028/p-7t0wv7
DOI	10.4028/p-7t0wv7 doi
其它	期刊：Diffusion and defect data, solid state data. Part B, Solid state phenomena/Solid state phenomena 作者：Fulvio Mazzamuto; Zeinab Chehadi; Fabien Rozé; Mathieu Opprecht; Atul Gupta; et al 出版日期：2024-08-22
求助人	曾婉娟在 2025-02-24 11:41:27 发布自湖南，悬赏 30 积分
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