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标题
Fluorine-passivated In2O3 thin film transistors with improved electrical performance via low-temperature CF4/N2O plasma
低温CF4/N2O等离子体提高电性能的氟钝化In2O3薄膜晶体管
相关领域
材料科学 薄膜晶体管 X射线光电子能谱 光电子学 阈值电压 电介质 电子迁移率 异质结 退火（玻璃） 栅极电介质 氟 兴奋剂 等离子体 晶体管 分析化学（期刊） 远程等离子体 氧化物 纳米技术 电压 化学工程 化学气相沉积 化学 电气工程 图层（电子） 物理 量子力学 色谱法 工程类 冶金 复合材料
网址
https://doi.org/10.1063/5.0113015
AI链接 scitation.orgdoi.org
DOI
10.1063/5.0113015 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Jie Zhang; Adam Charnas; Zehao Lin; Dongqi Zheng; Zhuocheng Zhang; et al
出版日期：2022-10-24
求助人
youyuguang 在 2025-02-24 10:20:24 发布自四川，悬赏 10 积分
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