标题 |
Study of the 6.x nm short wavelength radiation spectra of laser-produced erbium plasmas for BEUV lithography
BEUV光刻用激光产生的铒等离子体6.x nm短波辐射光谱的研究
相关领域
激发态
等离子体
原子物理学
激光器
波长
极紫外光刻
谱线
极端紫外线
辐射传输
电子
温度电子
材料科学
化学
物理
光学
光电子学
量子力学
天文
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Plasma Science and Technology 作者:Tao Wu; Qian Wang; Liuan CHEN; Peixiang Lu 出版日期:2023-01-03 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|