Low-damage electron beam lithography for nanostructures on Bi2Te3-class topological insulator thin films

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标题	Low-damage electron beam lithography for nanostructures on Bi2Te3-class topological insulator thin films Bi2Te3级拓扑绝缘体薄膜纳米结构的低损伤电子束光刻相关领域电子束光刻纳米光刻平版印刷术抵抗材料科学拓扑绝缘体自旋电子学纳米技术模版印刷薄膜纳米结构下一代光刻光电子学电子凝聚态物理物理铁磁性制作医学替代医学图层（电子）病理量子力学
网址	https://doi.org/10.1063/5.0144726 AI链接 arxiv.org arxiv.org arxiv.org arxiv.orgdoi.org
DOI	10.1063/5.0144726 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Molly P. Andersen; Linsey K. Rodenbach; Ilan T. Rosen; Stanley C. Lin; Lei Pan; et al 出版日期：2023-06-23
求助人	KJ 在 2023-11-20 19:24:42 发布自四川，悬赏 10 积分
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