标题 |
Process and local layout effect interaction on a high performance planar 20nm CMOS
高性能20nm平面CMOS工艺与局域布局效应的相互作用
相关领域
CMOS芯片
平面的
电子工程
过程(计算)
逻辑门
计算机科学
集成电路布局
工程类
电气工程
集成电路
操作系统
计算机图形学(图像)
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