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Controlling ferroelectric properties in Y-doped HfO2 thin films by precise introduction of oxygen vacancies
精确引入氧空位控制掺钇HfO2薄膜的铁电性能
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期刊:Journal of Applied Physics 作者:Anna V. Dmitriyeva; Sergei Zarubin; A. S. Konashuk; Sergey A. Kasatikov; Victor V. Popov; et al 出版日期:2023-02-07 |
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