Helium Ion‐Assisted Wet Etching of Silicon Carbide with Extremely Low Roughness for High‐Quality Nanofabrication

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标题	Helium Ion‐Assisted Wet Etching of Silicon Carbide with Extremely Low Roughness for High‐Quality Nanofabrication 氦离子辅助湿法刻蚀极低粗糙度碳化硅制备高质量纳米材料
网址	https://doi.org/10.1002/smtd.202301364
DOI	10.1002/smtd.202301364 doi
其它	期刊：Small Methods 作者：Xiaolei Wen; Lansheng Zhang; Xiuxia Wang; Lin Chen; Jian Sun; Huan Hu 出版日期：2024
求助人	浅弋在 2024-01-14 20:53:46 发布自河南，悬赏 10 积分
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