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 Process parameter optimization of K477 and GH4169 for defect control in laser-directed energy deposition using Taguchi design of experiments 基于田口实验设计的K477和GH4169激光定向能量沉积缺陷控制工艺参数优化
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期刊：The International Journal of Advanced Manufacturing Technology 作者：Yuan Li; Yun Chen; Liang Hou; Chao Ye; Shu‐Yuan Chen; et al 出版日期：2024-02-26 |
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