Advances in modeling and optimization for two-photon lithography

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标题	Advances in modeling and optimization for two-photon lithography 双光子光刻建模与优化研究进展相关领域平版印刷术制作计算机科学光学（聚焦）过程（计算）微波食品加热电子工程材料科学光学物理工程类光电子学电信医学替代医学病理操作系统
网址	https://doi.org/10.1117/12.3017407 AI链接 imt-atlantique.hal.sciencedoi.org
DOI	10.1117/12.3017407 doi
其它	期刊：作者：Valeriia Sedova; Florie Ogor; Joёl Rovera; Odysseas Tsilipakos; Lisa Lemberg; et al 出版日期：2024-06-17
求助人	MADKAI 在 2025-03-04 10:09:12 发布自浙江，悬赏 20 积分
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