Excellent ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films with ultra-thin Al2O3 serving as capping layer

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标题	Excellent ferroelectric Hf0.5Zr0.5O2 thin films with ultra-thin Al2O3 serving as capping layer 超薄Al2O3覆盖层Hf0.5Zr 0.5 O2薄膜性能优异相关领域铁电性材料科学锡电容器薄膜电介质光电子学电极图层（电子）非易失性存储器原子层沉积纳米技术电压电气工程冶金化学物理化学工程类
网址	https://doi.org/10.1063/5.0064700 AI链接 scitation.orgdoi.org
DOI	10.1063/5.0064700 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Bingwen Liu; Yating Cao; Wei Zhang; Yubao Li 出版日期：2021-10-25
求助人	哆啦η梦在 2025-03-19 23:19:10 发布自河北，悬赏 10 积分
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