Effect of bias on the structure and properties of TiZrN thin films deposited by unbalanced magnetron sputtering - 科研通

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标题	Effect of bias on the structure and properties of TiZrN thin films deposited by unbalanced magnetron sputtering 偏压对非平衡磁控溅射TiZrN薄膜结构和性能的影响相关领域材料科学残余应力薄膜基质（水族馆）溅射沉积纹理（宇宙学）复合材料溅射扫描电子显微镜腔磁控管电阻率和电导率偏压分层（地质）剩余电阻率分析化学（期刊）纳米技术化学电气工程人工智能计算机科学色谱法电压俯冲生物古生物学工程类地质学构造学图像（数学）海洋学
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2016.05.021
DOI	10.1016/j.tsf.2016.05.021 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Yu‐Wei Lin; Hsi-An Chen; Ge‐Ping Yu; Jia‐Hong Huang 出版日期：2016-05-19
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