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 Research on the Gas Effect of Octafluorocyclobutane Plasma Jet at Atmospheric Pressure for Silicon Etching 常压八氟环丁烷等离子体射流用于硅刻蚀的气体效应研究
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期刊：IEEE Transactions on Plasma Science 作者：Wei-Ting Liu; Ta‐Chin Wei; Yu-Ching Sung; Chou‐Yuan Cheng; Ting‐Hao Chen; et al 出版日期：2018-12-05 |
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