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 Inductively Coupled Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of SiO2 and GeO2–SiO2 Films for Optical Waveguides Using Tetraethylorthosilicate and Tetramethylgermanium 正硅酸四乙酯和四甲基锗电感耦合等离子体增强化学气相沉积光波导用SiO2和GeO2-SiO2薄膜
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Tetsuya Hattori; Shigeru Semura; Nobuhiro Akasaka 出版日期：2002-10-02 |
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