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Copper Diffusion Behavior in SiO2/Si Structure During 400°C Annealing
400℃退火过程中铜在SiO2/Si结构中的扩散行为
相关领域
铜 退火（玻璃） 薄脆饼 硅 材料科学 表面扩散 分析化学（期刊） 扩散 半导体 化学 冶金 光电子学 物理化学 吸附 色谱法 物理 热力学
网址
https://doi.org/10.1143/jjap.43.1
DOI
10.1143/jjap.43.1 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Kazuyuki Hozawa; J. Yugami
出版日期：2004-01-13
求助人
liyiliyi117 在 2025-01-23 11:12:33 发布自北京，悬赏 10 积分
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