Room-temperature deposition of low H-content SiNx/SiNxOy thin films using a specially designed PECVD system

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标题	Room-temperature deposition of low H-content SiNx/SiNxOy thin films using a specially designed PECVD system 利用特殊设计的PECVD系统室温沉积低H含量SiNx/SiNxOy薄膜相关领域等离子体增强化学气相沉积材料科学折射率氮化硅沉积（地质）氮化硅薄膜无定形固体椭圆偏振法等离子体分析化学（期刊）硅光电子学纳米技术化学有机化学生物物理古生物学量子力学沉积物
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2020.126506
DOI	10.1016/j.surfcoat.2020.126506 doi
其它	期刊：Surface & Coatings Technology 作者：Wei Xu; Heli Tang; Qingyu Zhang; Nan Zhou; Yu Shen 出版日期：2020-10-20
求助人	董醉山在 2024-11-11 10:40:30 发布自浙江，悬赏 10 积分
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