| 标题 |
 Diffusion in Silicon. I. Effect of Dislocation Motion on the Diffusion Coefficients of Boron and Phosphorus in Silicon 硅中的扩散。我。位错运动对硼、磷在硅中扩散系数的影响
相关领域
硅
攀登
扩散
位错
硼
空位缺陷
材料科学
凝聚态物理
晶格扩散系数
化学物理
晶体缺陷
结晶学
有效扩散系数
化学
热力学
冶金
复合材料
物理
有机化学
磁共振成像
放射科
医学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Applied Physics 作者：T.J. Parker 出版日期：1967-08-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
彭于彦祖
杳鸢
yar
pcr163
HEIKU
寻道图强
Ganlou
Billy
Leonardi
带头大哥
iNk
萧水白
坚强的广山
咻咻
模糊中正
Liou
cannon8
tuanheqi
平常的毛豆
shinysparrow
皖公网安备34019202002308
