标题 |
Research on the mitigation of redeposition defects on the fused silica surface during wet etching process
湿法刻蚀过程中熔融石英表面再沉积缺陷的缓解研究
相关领域
材料科学
蚀刻(微加工)
通量
激光器
光学
氢氟酸
抛光
各向同性腐蚀
降水
光电子学
纳米技术
复合材料
冶金
图层(电子)
气象学
物理
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Optics express 作者:Changpeng Li; Ke Yang; Zhuo Zhang; Yingyi Qian; Taixiang Liu; et al 出版日期:2024-02-08 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|