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 Subdiffraction‐Limited Motheye‐Like Metastructures Fabrication by Dual‐Beam Overexposure Methodology Enhancing Broadband Infrared Antireflective Application 双光束过曝光法制备亚衍射受限的类Motheye元结构增强宽带红外减反射应用
相关领域
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期刊：Advanced Optical Materials 作者：Peng Ran; Li Wang; Sheng Wang; Wenbo Chen; Zeyu Zhao; et al 出版日期：2024-08-09 |
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