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 Subhalf-micron lithography system with phase-shifting effect 具有相移效应的亚半微米光刻系统
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Miyoko Noguchi; Mineo Muraki; Yukiko Iwasaki; Atsushi Suzuki 出版日期：1992-06-01 |
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