Viable strategy to minimize trap states of patterned oxide thin films for both exceptional electrical performance and uniformity in sol–gel processed transistors

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标题	Viable strategy to minimize trap states of patterned oxide thin films for both exceptional electrical performance and uniformity in sol–gel processed transistors 在溶胶——凝胶处理的晶体管中使图案化氧化物薄膜的陷阱态最小化以获得优异的电性能和均匀性的可行策略相关领域材料科学薄膜晶体管光电子学氧化物电容器电介质泄漏（经济）铟晶体管辐照纳米技术电压电气工程工程类图层（电子）冶金物理经济核物理学宏观经济学
网址	https://doi.org/10.1016/j.cej.2022.135833
DOI	10.1016/j.cej.2022.135833 doi
其它	期刊：Chemical Engineering Journal 作者：Do Kyung Kim; Kyeong-Ho Seo; Dae-Hyeon Kwon; Sang-Hwa Jeon; Yu-Jin Hwang; et al 出版日期：2022-08-01
求助人	xiaozhang 在 2024-03-19 14:05:39 发布自福建，悬赏 10 积分
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