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 Process development of 6-in EUV mask with TaBN absorber 含TaBN吸收剂的6英寸EUV掩膜的工艺开发
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期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者：Tsutomu Shoki; Morio Hosoya; Takeru Kinoshita; Hideo Kobayashi; Youichi Usui; et al 出版日期：2002-07-31 |
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