High-NA EUV lithography exposure tool: key advantages and program progress

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标题	High-NA EUV lithography exposure tool: key advantages and program progress 高NA EUV光刻曝光工具：关键优势和程序进展相关领域极紫外光刻镜头（地质）数值孔径计算机科学极端紫外线钥匙（锁）平版印刷术覆盖扫描仪光圈（计算机存储器）吞吐量光学（聚焦）光学焦点深度（构造）计算机硬件人工智能物理工程类无线激光器电信机械工程波长古生物学俯冲生物构造学计算机安全程序设计语言
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.2583640
DOI	10.1117/12.2583640 doi
求助人	lxl 在 2025-03-07 08:52:02 发布自广东，悬赏 20 积分
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