Dopant-defect interactions in highly doped epitaxial Si:P thin films

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标题	Dopant-defect interactions in highly doped epitaxial Si:P thin films 高掺杂外延Si：P薄膜中的掺杂-缺陷相互作用相关领域掺杂剂兴奋剂退火（玻璃）外延材料科学薄膜分析化学（期刊）亚稳态化学气相沉积空位缺陷矿物学结晶学化学纳米技术光电子学复合材料图层（电子）有机化学色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2019.05.059
DOI	10.1016/j.tsf.2019.05.059 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Z. Weinrich; X. Li; Shashank Sharma; V. Crăciun; MARWA TARIQ AHMED; et al 出版日期：2019-05-27
求助人	fyt723175249 在 2024-10-22 14:13:18 发布自浙江，悬赏 10 积分
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