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 Systematic studies of the effects of group-III dopants (La, Y, Al, and Gd) in Hf0.5Zr0.5O2 ferroelectrics by ab initio simulations Hf0.5Zr 0.5 O2铁电体中III族掺杂（La、Y、Al和Gd）效应的从头计算系统研究
相关领域
掺杂剂
材料科学
兴奋剂
钝化
铁电性
从头算
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从头算量子化学方法
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Zhao Liang; Jirong Liu; Yi Zhao 出版日期：2021-10-25 |
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