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 Diamine Adduct of Cobalt(II) Chloride as a Precursor for Atomic Layer Deposition of Stoichiometric Cobalt(II) Oxide and Reduction Thereof to Cobalt Metal Thin Films 氯化钴(II)的二胺加合物作为化学计量氧化钴(II)的原子层沉积及其还原成钴金属薄膜的前体
相关领域
钴
化学计量学
材料科学
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薄膜
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化学
纳米技术
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冶金
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期刊：Chemistry of Materials 作者：Katja Väyrynen; Timo Hatanpää; Miika Mattinen; Mikko Heikkilä; Kenichiro Mizohata; et al 出版日期：2018-05-07 |
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