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 Study of Al2O3 thin films by ALD using H2O and O3 as oxygen source for waveguide applications 以H2O和O3为氧源的ALD法制备Al2O3薄膜的研究
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期刊：Optical Materials 作者：Diana Laura Caballero-Espitia; E.G. Lizárraga-Medina; H.A. Borbón-Núñez; O.E. Contreras-López; H. Tiznado; et al 出版日期：2020-11-01 |
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