Trends in photoresist materials for extreme ultraviolet lithography: A review

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标题	Trends in photoresist materials for extreme ultraviolet lithography: A review 极紫外光刻用光刻胶材料的发展趋势相关领域极紫外光刻抵抗光刻胶极端紫外线平版印刷术材料科学纳米技术光刻微电子亮度下一代光刻多重图案十字线光学光电子学电子束光刻薄脆饼激光器物理图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1016/j.mattod.2023.05.027
DOI	10.1016/j.mattod.2023.05.027 doi
其它	期刊：Materials Today 作者：Xiaolin Wang; Peipei Tao; Qianqian Wang; Rongbo Zhao; Tianqi Liu; et al 出版日期：2023-06-17
求助人	yz 在 2024-11-09 16:46:01 发布自浙江，悬赏 10 积分
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