标题 |
Review on chemical mechanical polishing for atomic surfaces using advanced rare earth abrasives
先进稀土磨料原子表面化学机械抛光研究进展
相关领域
稀土
抛光
化学机械平面化
材料科学
天体生物学
冶金
物理
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期刊:Journal of Physics D Applied Physics 作者:X. Chen; Zhenyu Zhang; Yong‐Min Liang; Hao Luo; Jianmei Wang; et al 出版日期:2024-10-08 |
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