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 193 nm Immersion Lithography-Taking the Plunge 193 nm浸没式光刻——冒险
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期刊：Journal of Photopolymer Science and Technology 作者：Ralph R. Dammel; F. M. Houlihan; Raj Sakamuri; David Rentkiewicz; Andrew Romano 出版日期：2004-01-01 |
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