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标题
Electromagnetic Modeling of Plasma Etch Chamber for Semiconductor Microchip Fabrication
半导体微芯片等离子刻蚀室的电磁建模
相关领域
时域有限差分法 等离子体 材料科学 无线电频率 光电子学 笛卡尔坐标系 光学 声学 计算机科学 物理 电信 数学 量子力学 几何学
网址
https://doi.org/10.2529/piers080829175650
DOI
10.2529/piers080829175650 doi
其它 期刊：Piers Online
作者：Zhigang Chen; Shahid Rauf; K. Ramaswamy; Ken Collins
出版日期：2009-01-01
求助人
gyhmybsy 在 2024-11-27 09:43:11 发布自福建，悬赏 30 积分
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