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 Photolithography system with liquid crystal display as active gray-tone mask for 3D structuring of photoresist 液晶显示作为主动灰度掩模的光刻系统用于光致抗蚀剂的三维结构
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期刊：Sensors and Actuators A-physical 作者：Terutake Hayashi; Takayuki Shibata; Takahiro Kawashima; Eiji Makino; Takashi Mineta; et al 出版日期：2008-06-15 |
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