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 The effects of wafer-scan induced image blur on CD control, image slope, and process window in maskless lithography 无掩模光刻中晶片扫描引起的图像模糊对光盘控制、图像斜率和工艺窗口的影响
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期刊：Proceedings of SPIE 作者：Yijian Chen; Yashesh Shroff 出版日期：2006-03-10 |
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