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Atomic layer deposition of Ga2O3 using Tri-methyl-Gallium and H2O
使用三甲基镓和H2O的Ga2 O3原子层沉积
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镓
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期刊:Verhandlungen der Deutschen Physikalischen Gesellschaft 作者:Sakeb Hasan Choudhury; Massimo Tallarida; Chittaranjan Das; Dieter Schmeißer 出版日期:2013-01-01 |
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