High sensitivity non-CAR resists for EUV and EB lithography

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标题	High sensitivity non-CAR resists for EUV and EB lithography 用于EUV和EB光刻的高灵敏度非CAR抗蚀剂相关领域抵抗极紫外光刻材料科学平版印刷术制作半纤维素极端紫外线电子束光刻光学光电子学纳米技术化学物理纤维素激光器有机化学替代医学病理图层（电子）医学
网址	https://doi.org/10.1117/12.2551476
DOI	10.1117/12.2551476 doi
其它	期刊：作者：Kazuyo Morita; Kimiko Yamamoto; Masahiko Harumoto; Yuji Tanaka; Chisayo Mori; et al 出版日期：2020-03-23
求助人	robert 在 2024-08-28 11:37:15 发布自江苏，悬赏 20 积分
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