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 Electrically induced change in HfO2/1-monolayer TiO2/SiO2 metal-oxide-semiconductor stacks: capacitance–voltage and hard X-ray photoelectron spectroscopy studies HfO2/1-单层TiO2/SiO2金属-氧化物-半导体堆叠的电致变化：电容-电压和硬X射线光电子能谱研究
相关领域
X射线光电子能谱
材料科学
单层
电容器
氧化物
电容
分析化学（期刊）
半导体
偶极子
金属
光电子学
电压
纳米技术
电极
化学
电气工程
核磁共振
物理化学
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物理
有机化学
冶金
色谱法
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期刊：Applied Physics Express 作者：Noriyuki Miyata; Kyoko Sumita; Akira Yasui; Ryousuke Sano; Reito Wada; et al 出版日期：2021-06-14 |
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