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2.5D-patterning via i-line grayscale exposure for photonic structures and micro lens arrays
2.5光子结构和微透镜阵列的i线灰度曝光的D图案化
相关领域
灰度
镜头(地质)
直线(几何图形)
光子学
材料科学
光电子学
光学
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物理
像素
几何学
数学
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其它 |
期刊: 作者:Sebastian Schermer; Christian Helke; Balaji Sake; Andrew Zanzal; Patrick Reynolds; et al 出版日期:2024-04-09 |
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