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 Comparison of photoresist sensitivity between KrF, EB, and EUV exposure KrF、EB和EUV曝光之间的光刻胶灵敏度比较
相关领域
极紫外光刻
抵抗
光刻胶
极端紫外线
材料科学
光学
光电子学
纳米技术
物理
激光器
图层（电子）
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期刊： 作者：Yosuke Ohta; Atsushi Sekiguchi; Shinji Yamakawa; Tetsuo Harada; Takeo Watanabe; et al 出版日期：2023-11-21 |
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