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 Effects of Photoresist Polymer Molecular Weight and Acid-Diffusion on Line-Edge Roughness 光刻胶聚合物分子量和酸扩散对线边缘粗糙度的影响
相关领域
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抵抗
聚合物
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：G. P. Patsis; Εvangelos Gogolides; K. van Werden 出版日期：2005-08-01 |
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