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标题
Correction of the phase retardation caused by intrinsic birefringence in deep UV lithography
深紫外光刻中本征双折射引起相位延迟的校正
相关领域
双折射 平版印刷术 材料科学 相(物质) 光学 光刻 光电子学 计算机科学 物理 量子力学
网址
DOI
10.1117/12.597180 doi
其它 期刊:Optical Microlithography XVIII
作者:Alexander Serebriakov; Florian Bociort; Joseph Braat
出版日期:2005-06-09
求助人
子暮 在 2024-11-02 16:49:11 发布自福建,悬赏 20 积分
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