Controlled Layer-by-Layer Etching of MoS2

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标题	Controlled Layer-by-Layer Etching of MoS2 MoS2的受控逐层蚀刻相关领域 X射线光电子能谱材料科学解吸蚀刻（微加工）单层二硫化钼吸附图层（电子）分析化学（期刊）拉曼光谱氧化物热脱附光谱法化学工程纳米技术复合材料化学冶金有机化学光学物理工程类
网址	https://doi.org/10.1021/acsami.5b03491
DOI	10.1021/acsami.5b03491 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：TaiZhe Lin; Baotao Kang; Minhwan Jeon; C. Huffman; JeaHoo Jeon; et al 出版日期：2015-06-19
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