标题 |
Recent progress in III-nitride nanosheets: properties, materials and applications
III族氮化物纳米片的性能、材料和应用研究进展
相关领域
石墨氮化碳
纳米片
氮化硼
光电子学
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期刊:Semiconductor Science and Technology 作者:Kefeng Wu; Siyu Huang; Wenliang Wang; Guoqiang Li 出版日期:2021-12-01 |
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