Investigation of ALD or PVD (Ti-rich vs. N-rich) TiN metal gate thermal stability on HfO2 high-K

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标题	Investigation of ALD or PVD (Ti-rich vs. N-rich) TiN metal gate thermal stability on HfO2 high-K HfO2高K上ALD或PVD（富钛与富氮）锡金属栅极热稳定性的研究相关领域锡 X射线光电子能谱热稳定性材料科学原子层沉积物理气相沉积分析化学（期刊）金属化学工程纳米技术薄膜化学冶金有机化学工程类
网址	http://dx.doi.org/10.1109/VTSA.2010.5488933
DOI	10.1109/VTSA.2010.5488933 doi
求助人	fyt723175249 在 2024-10-24 14:09:13 发布自浙江，悬赏 10 积分
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